目前，氧化亞硅(SiOx)是重要的電子和光學材料和鋰離子電池負極添加劑。傳統上生產氧化亞硅的方法是將單質硅和二氧化硅同摩爾比例混合，然后研磨成微米量級的粉末(顆粒越小混合越均勻，相互間接越緊密越有利于反應)，再在負壓環境下加熱到1250℃以上的溫度進行歧化反應，溫度越高越快，這樣所形成的氧化亞硅以蒸氣的形式溢出，并被帶到壓力和溫度較低的地方并被冷凝成為氧化亞硅固體

我公司咸陽鴻峰窯爐設備有限公司較早進入這一領域的廠家，與該領域研究的前沿科研院所長期保持交流溝通，爐體的結構設計及工藝實現得到了很多專業人士的認可，西北工業大學及哈爾濱工業大學的教授都給予了很多改進意見，經過多年的研究創新，公司現研發的新一代真空升華設備具有設計合理，運行穩定，成品規格高，良率高，節能環保等特點，可規模化應用于工業生產領域。

該設備為咸陽鴻峰窯爐設備有限公司開發的，專業應用于硅碳原材料一氧化硅制備的設備。

該設備主要應用于真空升華法制備氧化亞硅

該設備溫控精度2度。

該設備溫度控制1700度以內。

該設備升溫速率快。

該設備可以可以在真空度下保持穩定

該設備產量大

該設備能耗低

該設備經過業內驗證，做出的材料品質良好

設備參數
1 名稱 HF-RS-A（氧化亞硅專用升華爐）
2 爐型 臥室
3 設備組成 升華系統、加熱系統、溫控系統、真空系統、機械系統、冷卻系統
4 升華系統由燒結區和收集區組成。 收集倉的材質由客戶
5 溫控系統采用 PLC 觸屏控制方式
6 加熱系統該設備采用電阻絲加熱
7 真空系統真空泵真空閥門及管路組成
8 機械部分區外殼采用 304 不銹鋼制作
9 冷卻系統 該設備配置兩段的冷卻系統
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (終以設計尺寸為主)