2023年6月，北方華創(chuàng)正式發(fā)布12英寸去膠機(jī)ACE i300，開拓12英寸刻蝕領(lǐng)域全新版圖。去膠工藝作為刻蝕工藝的一種，是晶圓制造過程中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，光刻膠在完成圖形復(fù)制和傳遞作用后能否去除干凈直接影響到后續(xù)工藝是否能夠進(jìn)行，甚至關(guān)系到器件的性能。
ACE i300主要應(yīng)用于12英寸存儲(chǔ)、邏輯、圖像傳感器等領(lǐng)域的去膠工藝，以良好的性能表現(xiàn)，實(shí)現(xiàn)刻蝕后去膠（post etch strip）、離子注入后去膠（post implant strip）、去殘膠（descum）、表面處理（surface treatment）等去膠工藝全覆蓋。
ACE i300
性能良好，多項(xiàng)關(guān)鍵工藝指標(biāo)達(dá)到領(lǐng)域先進(jìn)水平。ACE i300依托北方華創(chuàng)多年的刻蝕經(jīng)驗(yàn)積累，采用高密度、低損傷等離子源設(shè)計(jì)，同時(shí)配備北方華創(chuàng)成熟的遠(yuǎn)程ICP（電感耦合等離子體源）技術(shù)，達(dá)到高水平的去膠速率，并實(shí)現(xiàn)去膠損傷抑制；采用獨(dú)立腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)均勻的流場(chǎng)分布，去膠均勻性表現(xiàn)良好；腔室壁配備獨(dú)立控溫系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)良好的顆粒控制水平。
以市場(chǎng)為導(dǎo)向，為客戶創(chuàng)造更大價(jià)值。ACE i300可配置大氣、真空兩種傳輸平臺(tái)，滿足客戶不同工藝需求；同時(shí)，搭配雙腔(twin-chamber)設(shè)計(jì)，產(chǎn)能表現(xiàn)優(yōu)秀；機(jī)臺(tái)維護(hù)便捷，關(guān)鍵耗材使用壽命長(zhǎng)，滿足客戶低成本運(yùn)維需求。
作為國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備的開拓者及引航者，北方華創(chuàng)將始終以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng)，不斷開拓刻蝕領(lǐng)域全新應(yīng)用，助力更多客戶實(shí)現(xiàn)更大價(jià)值，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)進(jìn)步，創(chuàng)造無限可能！
